ADVANCED 4D NANO DESIGN sebagai Teknologi Terbaru untuk Ban Dunlop

Badan Energi Atom Jepang, J-PARC Center,Institut Ilmu Bahan Struktur KEK, Organisasi Penelitian Komprehensif untuk Sains dan Lingkungan dan Tokyo University Graduate School of Frontier Sciences) telah meneliti dan merilis ADVANCED 4D NANO DESIGN, teknologi mutakhir yang bekerjasama dengan fasilitas synchrotron radiation dari Spring-8, J-PARC dan K Komputer, untuk pemanfaatan pengembangan bahan dengan teknologi terbaru untuk ban yang akan datang.

Menggabungkan antara fasilitas dan peralatan yang paling mutakhir di Jepang, ADVANCED 4D NANO DESIGN mampu terus menganalisa dan mensimulasikan struktur internal dan perilaku molekul karet dari skala nano untuk yang skala mikron secara akurat. Teknologi ini membuat kemungkinan untuk memperbaiki simultan yang signifikan dalam tiga sifat ban yang utama. Seperti : efisiensi bahan bakar, mencengkram dengan baik dan memiliki umur yang tahan lama. Penelitian terbaru ban Dunlop yaitu ban Wear-Resistant Max Tread Rubber adalah salah satu contoh dari ban terobosan yang dikembangkan menggunakan ADVANCED 4D NANO DESAIN. Tapak karet yang digunakan dalam konsep ban ini mencapai 200% dari ban Dunlop yang sebelumnya. Selain itu ban ini memiliki umur yang lama, hemat bahan bakar serta memiliki daya cengkram yang sangat baik.

Ban Wear-Resistant Max Tread Rubber,

Ban terobosan baru dengan ADVANCED 4D NANO DESAIN

Menggunakan ADVANCED 4D NANO DESIGN, Sumitomo Rubber Industries akan terus meningkatkan perkembangan ban dengan material yang mutakhir, ramah lingkungan dan berkualitas dengan harga yang ramah juga.

Gambaran Kerja Sama dengan Fasilitas Penelitian Terkemuka dari Jepang